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上海微电子装备（集团）股份有限公司

上海微电子装备（集团）股份有限公司

上海微电子装备（集团）股份有限公司（曾用名：上海微电子装备有限公司），简称SMEE，于2002年成立于上海，董事长干频为法人代表。是一家从事半导体产业投影光刻机研发和生产为主的企业。

上海微电子装备（集团）Inc.主要从事半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。企业产品主要应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。该公司是由上海电气控股集团有限公司，以及上海科技投资股份公司等机构联合创立。2008年，企业承担的“十五计划光刻机重大科技专项”，通过了中国科技部组织的验收。2009年，企业生产的首台先进封装光刻机产品SSB500交付用户，该产品被中国科技部批准为“2011年度国家级重点新产品计划项目”。

2018年，上海微电子装备生产可用于90纳米半导体制程的600系列光刻机，获评第20届中国国际工业博览会银奖。2019年，用于LED制造的300系列光刻机入选中国制造业单项冠军产品名录。

历史沿革

2002年3月，在中国科技部和上海市政府共同推动下，由上海电气控股集团有限公司，以及上海科技投资股份公司等机构联合创立了上海微电子装备有限公司，主要从事半导体产业的中高端投影光刻机研发、生产、销售等业务。

在2003年，企业投资2.28亿元成立了全资子公司上海威耀实业有限公司；次年，又投资2.5亿，成立了全资子公司上海东墅投资发展有限公司；到了2006年，企业接着投资1.7亿元，成立了全资子公司上海现代先进超精密制造中心有限公司。

2008年11月，上海微电子装备承担的“十五计划光刻机重大科技专项”，通过了中国科技部组织的验收。同年，企业被评为上海市知识产权示范企业。次年12月，企业生产的首台先进封装光刻机产品SSB500/10A交付用户。

到了2011年，企业研发生产的SSB500系列光刻机，被中国科技部批准为“2011年度国家级重点新产品计划项目”。次年5月该产品实现了海外销售，6月获评第14届中国国际工业博览会金奖。接着在2016年6月中国首台用于平板显示的SSB225投影曝光机成功交付用户。该产品被中国科技部评为“2014年度国家重点新产品”，在2016年，公司应用于平板显示的SSB245高分辨率投影曝光机获第18届中国国际工业博览会金奖。

2017年1月，企业完成股改，正式更名为上海微电子装备（集团）股份有限公司的同时，所承担的中国02重大科技专项任务“浸没光刻机关键技术预研项目”，通过了验收。

2018年，90nm光刻机项目在通过验收的同时，600系列IC前道投影光刻机，还获了第20届中国国际工业博览会银奖。次年，SSB300系列光刻机入选制造业单项冠军产品名录。2020年1月，公司获得“第三届浦东新区区长质量奖”。2023年9月6日，上海微电子装备（集团）股份有限公司发生工商变更，注册资本由约1.74亿人民币增至约2.66亿人民币，增幅约52.63%。

2024年9月10日，上海微电子公布发明专利《极紫外辐射发生装置及光刻设备》，内容涉及极紫外辐射发生装置及光刻设备。EUV光刻机采用13.5nm波长极紫外光，可实现8nm曝光分辨率用于先进制程芯片制造，技术难点在光学系统、光源等关键子系统。本次专利主要涉及EUV光源和光刻设备，其中极紫外辐射发生器（光源）包括腔体、靶材发生器、激光发生器、收集镜、电极板、气控部件等关键部件。